光谱仪山东
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产品描述

光学系统帕邢 - 龙格架发 光栅焦距750mm 刻线2400 条 /mm 谱线范围120-800nm 一级色散率0.55nm/mm 二级色散率0.275nm/mm 分辨率优于 0.01nm
我们通常所讲到光谱仅指光学光谱而言,从物质(固、液、气)加热或用光或用电激发射光谱时得到三种类型的光谱。线光谱是由气体状态下的原子或离子经激发而得到的,通常呈现分立的线状所以称线光线,就其产生方式而言又可分为发射光谱(明线)和吸收光谱(暗线)两种,因此光谱分析又分为发射光谱分析和原子吸收光谱分析。如果是原子激发产生的光谱,称原子光谱,如果离子激发所产生的光谱称离子光谱。带状光谱是原子结合成分子中发出的或两个以上原子的集团发出的,通常呈带状分布,是分子光谱产生,如在光谱分析中采用炭电极,在高温时,炭与空气中氮化合生成氰带(CN)分子,当氰分子在电弧中激发时产生的光谱,称氰带。连续光谱是从白热的固体中发出的,是特定的状态下原子分子中发出来的,所以连续光谱是无限数的线光谱或带光谱体。
我们通常讲的光谱分析,一般是指“原子发射光谱分析”,光电光谱分析中元素波长都是元素的原子光谱和离子光谱。
现在光电光谱仪主要分为两大类。非真空型的光电光谱仪的工作波长范围在近紫外区和可见光区。真空光电光谱仪工作波长扩展到远真空紫外120.0nm,因而利用这个波段中氮、碳、磷、硫等谱线的灵敏度来分析钢中的重要元素。
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直读光谱仪,即原子发射光谱仪。初在欧洲被研发出来,进入到20世纪以后,有了升级的发展趋势,当然从这种仪器的广泛投入使用以后,带来的作用基本上在钢铁上具有巨大的用途。在制造过程中,主要是运用了光电倍增管技术,先进的真空泵技术结合起来以后,植入到这样的一种高科技仪器当中,其运用广泛性也是值得信赖的。
目前,在市场中的直读光谱仪种类繁多,用途广泛,在钢铁,冶金,金属回收,航天,电力等等高科技行业中有了广泛的用途,其技术含量高,产品特点明显。性能好,产品质量明显,注重在这些高科技行业中带来的效果来说,也是准确无比的。
从直读光谱仪的基本特点来看,在研发过程中,对于传统的光谱进行根本性的改变,全新的进入到新式的光谱技术行列中。在进行的时候,其光谱能力强,测盆准确快速,其灵活性比较强,面对不同的,那么都是可以随时的进行改变,然后达到了高度的准确效率。在这种仪器的运用过程中来说,其响应速度快,而且对于光谱的分辨率也是很高的。基本上在短时间的以后,就可以显示相关的结果。
当这种光谱仪开始进入到科技行业中广泛运用以后,证明了这种技术的先进性,科技性,效果性,准确性。其功能也是非常好,作为从市场销售或者市场认可度方面,都是占据很大的优势,全新的在国内市场中,运用在很多高科技行业中,这就是为什么受到认可或者关注的一种高科技仪器,全新的在技术的支持至上带来的一种作用。
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光谱起源于17世纪,1666年物理学家牛顿次进行了光的色散实验。他在暗室中引入一束太阳光,让它通过棱镜,在棱镜后面的自屏上,看到了红、橙、黄、绿、兰、靛、紫七种颜色的光分散在不同位置上——即形成一道彩虹。这种现象叫作光谱.这个实验就是光谱的起源,自牛顿以后,一直没有引起人们的注意。
经历了100多年的发展探索与研究,1859年克希霍夫和本生为了研究金属的光谱自己设计和制造了一种完善的分光装置,这个装置就是世界上台实用的光谱仪器,研究火焰、电火花中各种金属的谱线,从而建立了光谱分析的初步基础。直至1882年,罗兰发明了凹面光栅,即是把划痕直接刻在凹球面上。凹面光栅实际上是光学仪器成象系统元件的合为一体的高效元件,它解决了当时棱镜光谱仪所遇到的不可克服的困难。凹面光栅的问世不仅简化了光谱仪器的结构,而且还提高了它的性能。
1928年以后,由于光谱分析成了工业的分析方法,光谱仪器得到迅速的发展,一方面改善激发光源的稳定性,另一方面提高光谱仪器本身性能。
早的光源是火焰激发光谱;后来又发展应用简单的电弧和电火花为激发光源,在上世纪的三十、四十年代改进采用控制的电弧和电火花为激发光源,提高了光谱分析的稳定性。工业生产的发晨,光谱学的进步,促使光学仪器进一步得到改善,而后者又反作用于前者,促进了光谱学的发展和工业生产的发展。
六十年代光电直读光谱仪,随着计算机技术的发展开始迅速发展。由于计算机技术的发展,电子技术的发展,电子计算机的小型化及微处理机的出现和普及,成本降低等原因、于上世纪的七十年代光谱仪器几乎100%地采用计算机控制,这不仅提高了分析精度和速度,而且对分析结果的数据处理和分析过程实现自动化控制。
解放后,我国的光谱仪器工业从无到有,由小到大,得到飞跃的发展,且具有一定的规模,与世界先进技术竞争中求生存,社会商品竞赛中得到发展。
1958年开始试制光谱仪器,生产了我国台中型石英摄谱仪,大型摄谱仪,单色仪等。中科院光机所开始研究刻制光栅,59年上海光学仪器厂,63年北京光学仪器厂开始研究刻制光栅,63年研制光刻成功。1966—1968年北京光学仪器厂和上海光学仪器厂先后研制成功中型平面光栅摄谱仪和一米平面光栅摄谱仪及光电直读头。1971—1972年由北京*二光学仪器厂研究成功国内台WZG—200平面光栅光量计,结束了我国不能生产光电直读光谱仪的历史。
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清洗激发台的内表面,主要是避免残留内壁的粉尘放电影响分析结果。通常每激发100—200次应清理一次。电极与激发面之间的距离,必须按较距要求调整好,如果与激发面的距离太大,试样不易激发,如果电极与激发面的距离太小,曝光时放电电流太大,以至于与仪器各参数不相匹配,使测定结果与实际结果之间有差异,影响测定的准确性。因此必须将电极与激发面的距离调整准确,清洗激发台和电极后一定要重视这个问题
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