CMOS光谱仪 直读火花
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产品描述

光学系统帕邢 - 龙格架发 光栅焦距750mm 刻线2400 条 /mm 谱线范围170-500nm 一级色散率0.55nm/mm 二级色散率0.275nm/mm 分辨率优于 0.01nm
“技术革新奖”评选,鼓励*工人技术革新
  新员工经过上岗培训后,还必须要有师傅“带着”,一般半年后才能够上岗,师傅仍然要承担的职责。另外,每个员工的熟练程度必然存在着差异,为了保证产品的质量钢研纳克加强了对生产过程质量,如,光室组装环节通常主要通道的光强值是否合格。
  钢研纳克的生产工人并不多,而且也是大专毕业。*的生产工人也都是钢研纳克的技术人员之一。钢研纳克一直鼓励*工人进行技术革新,从2006年开始就坚持开展面向他们的“技术革新奖”评选活动,参选人针对工艺、工装、装配等生产实际提出问题、并牵头组织团队解决问题。曾经获奖的有光电倍增管管座改进、样品夹具改进、软件改进等,虽然只是一些小的改进,但是一旦评价成功,公司就会及时下变更单,真正应用到生产中去。每年有不少于40项的技术革新,日积月累下来对于质量的提升作用不可谓不大。
CMOS光谱仪
干扰效应也称基体效应,又称共存元素、*三元素或伴随物效应,指的是在样品中除了分析物外所有其他成分的影响,在光谱分析中能引起谱线的强度变化,导致分析结果产生一些误差,这种干扰效应是光谱分析中需要高度重视的一个问题。
CMOS光谱仪
直读光谱仪的光室的作用
直读光谱仪在分析某些种类的金属时(如铸铁、不锈钢、低合金钢), C、P、S、As、N这些元素都是需要的。这些元素光谱线均在真空紫外波段,而空气中的氧气、氮气、水蒸气等会对紫外区谱线产生强烈的吸收,使光谱仪能够测量到的紫外光谱强度急剧减弱,进而影响被测元素的准确性及稳定性。所以必须将光室中的空气和水蒸气必须除去,才能实现较为稳定的紫外区元素结果
CMOS光谱仪
正确进行样品分析。    
认真制备试样  样品切割和磨样处理后,激发面能密封住激发孔,样品表面清洁,无裂纹、砂眼、气孔等缺陷,样品和激发板不能漏气。   
激发样品 样品制备好后在激发台激发3次,异常点,留三组数据取平均值。
 做好直读光谱仪的维护保养。    
要按时清洁仪器可见光透镜和紫外光透镜,定期检查更换排气瓶的水量,定期清洁空气滤芯、更换滤芯。    
定期清洁火花台,样品激发的过程产生的金属蒸气一部分附在火花台上,久而久之大量粉末沉积,降低两电极之间的绝缘性能,影响激发效果。
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